迪史洁（上海）清洗设备有限公司成立于2006-07-05，是一家经营二氧化碳雪花设备的个体经营。我们本着“诚信经营，信誉至上，用心服务”的经营理念为芯片行业提供高质量、安全可靠的二氧化碳雪花设备。公司各种产品质量都有保证，每款产品都是品质良好。公司以人为本，立志创建出色企业文化；与时俱进，与员工及合作对象共创辉煌。如果您对我公司供应的二氧化碳雪花设备有兴趣，欢迎电话联系。

信誉好的二氧化碳雪花设备-助焊剂清洗干冰雪花颗粒清洗设备改善清洁工艺。

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迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

随着技术的进步，精密仪器的性能要求和复杂性也在增加。DSJet一直走在这条曲线的前列，不断提供进的干冰或雪清洁产品，这些产品对环境友好，不使用去离子水、化学物质和废物。

干冰雪花清洗优点:清洁，干燥的过程，控制的污点清洁，可以改变清洁强度，环保。

干冰雪花清洗表面处理粘合剂粘合工艺的表面处理提供了涂层和油漆之间的牢固粘合。喷嘴喷洒雪来清洁表面，不会留下任何污染物，牢固的结合。

干冰雪花清洗优点:不需要后期溶剂清洗或擦拭。在大气压下进行表面功能化，周期短，并证明能有效提高粘合强度。

干冰雪花清洗自动清洗自动化清洗单元工艺目前正在以下行业中实施:硬盘驱动器(HDD)、液晶显示器(LCD)、通信、医疗、军事和航空航天。

干冰雪花清洗优点:全自动、在线、快速、免手动、占地面积小、可重复清洁、节省人力

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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持续良好效果的CO2雪花清洗系统

与湿化学工艺相反，CO2雪花清洗系统使用干洗技术。清洁介质是液态二氧化碳，其保质期几乎是无限的。它是环境中性的，是作为化学工业的副产品产生的，也是由生物质产生的能量。

不可燃、无腐蚀性和的二氧化碳通过不磨损的双组分环形喷嘴供给，并在排出时膨胀形成细小的一氧化碳2雪晶。然后用压缩空气的夹套射流将它们捆绑在一起，并加速到超音速。当非磨蚀性喷射的雪和压缩空气在-78.5℃的温度下撞击待清洁的表面时，会发生热、机械、升华和溶剂效应的组合。由于这四种有效的清洁机制，CO2雪花清洗系统可可靠且可重复地去除整个表面或特定区域(如果需要)的颗粒和薄膜污染物。清洁过程对材料非常温和，甚至可以用来清洁精细结构的表面.

压缩空气的空气动力带走分离的杂质，然后通过集成的抽吸单元将其抽出，以防止再次污染。因为一氧化碳2在大气压力下瞬间升华，在清洁过程结束时，部件变干，使它们能够被电离、或直接涂漆。干洗工艺的另一个优点是零件的设计自由度更大，因为流体可能被截留的几何形状不再是问题。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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“优异的产品、成熟的技术、尽善尽美的服务”是迪史洁干冰雪花清洗设备所有职员的追求目标，作为可靠从事二氧化碳雪花设备的供应商，长期为芯片行业提供成熟技术和良好服务，倡导绿色环保节能，高能和谐发展。公司不断的整合企业资源，以可靠、节能、环保的二氧化碳雪花设备满足芯片行业各方位的需求。

开源节流促发展，挖潜增效续辉煌。能源越来越缺乏，清洗清理设备行业的环保意识越发强化。迪史洁干冰雪花清洗设备在未来的发展中也大力倡导节能减排的产品，未来二氧化碳雪花设备会在保证原有的质量以及使用寿命的基础上更加的环保节能。符合大众市场的需求又能为地球减能，实现企业经济效益与社会效益的结合。