恒誉真空_价位合理的磁控溅射卷绕镀膜设备供应， 恒誉真空拥有高素质技术人员，以及强大的销售团队。以企业综合实力为基础，建立现代化率机制，不断加强企业管理，提高经营效益生产磁控溅射卷绕镀膜设备，产品质量保证，经久耐用，具有镜片，镜头，饰品等表面镀膜，能起到增透、滤光、装饰等功效的用途。我司树立“好服务是生命，企业满意是目的”的服务原则，在全国深受广大中小企业的认可与好评。

“打造行业好，满足客户的可靠需求”，我公司供应的磁控溅射卷绕镀膜设备支持银行转账的付款方式，一旦您付款，我们将会在双方协商的时间发货（运费：买卖双方协商）。公司拥有成熟的产品检测设备和科学的企业管理方法、精细的制造工艺及高科技人才做保障。磁控溅射卷绕镀膜设备好销售国内机械和行业设备专用配件市场。

恒誉真空，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司坐落于肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧，于2012-07-23创办，自成立以来就致力于磁控溅射卷绕镀膜设备的生产与经营销售。公司拥有一大批可靠技术人才，充分满足广大中小企业对产品的需求，为客户供应市场上好的磁控溅射卷绕镀膜设备。

恒誉真空_价位合理的磁控溅射卷绕镀膜设备供应， 真诚为客户提供好的产品，周到细致的服务是肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司一直奉行的销售准则，使得公司销售的磁控溅射卷绕镀膜设备在机械和行业设备专用配件行业中有着强大的竞争优势。我司通过多年在本行业的不断研究，以及对公司产品品质的坚持，已赢得广大中小企业一致肯定。本公司将以“面向客户，适应市场”为导向，力求价格让用户满意，产品质量得客户肯定。