镀膜机厂家，恒誉真空提供合格的磁控溅射卷绕镀膜设备， 恒誉真空建立高起点、高目标、高质量、率、有效益的“五高”标准，锻造出质量良好的产品，获得广阔的销售市场。供应的磁控溅射卷绕镀膜设备主要用于镜片，镜头，饰品等表面镀膜，能起到增透、滤光、装饰等功效，在广东肇庆区域范围内受到广大中小企业的青睐。公司凭借良好的信誉，雄厚的实力，好的产品，低廉的价格服务于广大用户。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司创始于2012-07-23。在竞争日益激烈的机械和行业设备专用配件行业中发愤图强、积极进取、力争上游，创办至今已为广大中小企业提供了数不胜数的好品质磁控溅射卷绕镀膜设备，好的产品品质获得了中小企业一致肯定，在消费者中有口皆碑。

镀膜机厂家，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

本公司始终支持职工创新，创新技术、创新管理、创新环境、创新制度。磁控溅射卷绕镀膜设备符合创新精神，与时俱进，适应用户多变的需求。对于想要购买本公司产品客户可通过银行转账的支付方式支付交易，我们会在双方协商的时间为您发送产品，同时我们还将为您提供产品售出后质保一年的售后服务。

镀膜机厂家，恒誉真空提供合格的磁控溅射卷绕镀膜设备， 在高速高精时代大环境下，恒誉真空以客户为中心，以市场为导向，依法合规开展经营活动。公司将一如既往的供应有品质、高精度、有效能的磁控溅射卷绕镀膜设备，以满足中小企业需求，不断为广大客户提供好的产品服务，立志成为机械和行业设备专用配件业界的企业。公司地址：肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧，欢迎您对我们提出建议或意见。