镀膜机厂家，规模大的精密光学镀膜设备生产商， 恒誉真空建立高起点、高目标、高质量、率、有效益的“五高”标准，锻造出质量良好的产品，获得广阔的销售市场。供应的精密光学镀膜设备主要用于镜片，镜头，饰品等表面镀膜，在广东区域范围内受到广大中小企业的青睐。公司凭借良好的信誉，雄厚的实力，好的产品，低廉的价格服务于广大用户。

由我公司自主生产的精密光学镀膜设备，是经机械和行业设备专用配件行业专家鉴定后评定为优等品的产品，享誉业界。我们坚持公司内部建立的任何组织，流程，制度都建立在为客户提供更良好的服务的基础上，为了让客户能够快速的收到货物，我们采取的是陆运;公路运输的物流方式进行配送，在全国;广东、肇庆拥有众多客户。

镀膜机厂家，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司自成立伊始，就致力于打造属于公司的自有。在机械和行业设备专用配件行业中不断创新，融合成熟的技术，创意新颖的理念，生产有品质的精密光学镀膜设备。精密光学镀膜设备好销售于全国;广东、肇庆，获得广泛、稳定的产品市场。

镀膜机厂家，规模大的精密光学镀膜设备生产商， 恒誉真空一惯奉行互惠互利、诚实守信和积极开拓的精神，以优异的精密光学镀膜设备，优良的服务、公平的价格赢得市场，恒誉真空携全体员工热忱欢迎您前来光临指导，竭诚感谢您的厚爱和惠顾。公司地址肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧