肇庆恒誉，硬质膜镀膜设备商， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司成立于2012-07-23，是一家机械和行业设备专用配件各类产品，其中硬质膜镀膜设备为公司主导产品。凭借成熟的生产设备及可靠的经营管理模式，公司产品以有品质、高价值销售于全国;广东、肇庆，深受需求群体的欢迎。

肇庆恒誉，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

恒誉真空经过多年的经营发展，公司已经拥有一支颇具水准的经营团队。生产的硬质膜镀膜设备主要用于能在各种五金件表面镀制各种颜色的装饰性膜层，主要服务于广东肇庆地区。我们始终坚持“用心制造，诚信合作，品质经营”的营业理念，为广大需求群体供应优异的产品，同时提高售后服务质量，提升客户满意程度。

一直以来，恒誉真空都走在行业前列，在服务上不断地顾客的需求，在生产上不断地市场的需求。在客户正式下订单后，硬质膜镀膜设备可支持银行转账的方式支付货款，并且会在双方协商的时间时间内为需求群体派送，运费买卖双方协商，力求交易过程中有效、便利。我司必将不懈努力，专注于对产品质量的追求。

肇庆恒誉，硬质膜镀膜设备商， 恒誉真空一惯奉行互惠互利、诚实守信和积极开拓的精神，以优异的硬质膜镀膜设备，优良的服务、公平的价格赢得市场，恒誉真空携全体员工热忱欢迎您前来光临指导，竭诚感谢您的厚爱和惠顾。公司地址肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧