镀膜设备定制，广东报价合理的硬质膜镀膜设备， 多方位发展的肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主营硬质膜镀膜设备，集研发、生产、销售于一体。自成立以来，就具备良好的方案设计、项目策划能力，提供流程规范化整体方案解决服务，在机械和行业设备专用配件行业领域保持较高地位。公司以良好的信誉、优异的产品等雄厚的综合实力享誉全国;广东、肇庆各地，产品也深得用户信赖。

公司的硬质膜镀膜设备产品质量稳定，货源充实，价格合理，配送及时，在全国;广东、肇庆广受需求群体的欢迎。产品一贯采用批发;零售;的方式销售，规律的经营给予了众多消费者们便捷通道。我司面对变化理性对待，充分沟通，诚意配合，若有特定需求可与我司沟通协商。

恒誉真空以有效生产硬质膜镀膜设备为主营方向，产品很好的诠释其能在各种五金件表面镀制各种颜色的装饰性膜层的用途，主要销售往全国;广东、肇庆等地区。依靠完善、机制健全、不断强化的服务理念，为了方便广大需求群体，我司尽心尽力提供完善的售后服务，也因此受到需求客户一致的好评与赞誉。

镀膜设备定制，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

镀膜设备定制，广东报价合理的硬质膜镀膜设备， 成熟的销售网络渠道，可靠的售后服务队伍，依托特别的经验和过人的技术，使恒誉真空的硬质膜镀膜设备在众多同类产品中脱颖而出，用户遍布全国。公司一贯遵循 “诚信为本、质优价廉” 的经营理念，多年来发展良好，公司还将继续往这条路走下去，我们有理由相信恒誉真空的明天会更加美好。愿与广大客户缔结良好合作关系，欢迎前来参观合作。